Elektronikindustrins gas granskas
Betydligt mer än väntat av den kraftiga växthusgasen kvävetrifluorid, NF3, läcker ut i atmosfären. Forskare har nu kontrollerat elektronikindustrins egna, teoretiska utsläppsberäkningar genom att helt enkelt mäta förekomsten av NF3 i atmosfären. Koncentrationen visade sig vara fyra gånger högre än förväntat. Forskarna såg att halten har tjugofaldigats sedan 1978 och att utsläppen ökar med 11 procent per år. Studien publicerades i tidskriften Geophysical Research Letters.
NF3 används för etsning vid tunnfilmsteknik, ett led i tillverkningen av till exempel mikrochips och platta bildskärmar. Elektronikindustrin har hittills hävdat att gasen bryts ner nästan fullständigt i samband med tillverkningsprocessen och därför orsakar endast marginella utsläpp. Men det stämmer alltså inte. Forskarna uppskattar i stället att ungefär 16 procent av den använda gasen släpps ut i atmosfären. För att uppmuntra effektivare tillverkningsmetoder föreslår de att NF3 bör inkluderas i gruppen perfluorkolväten, en av de sex växthusgaser som i dag regleras i Kyotoprotokollet.
Kvävetrifluorid är en 10 000–20 000 gånger effektivare växthusgas än koldioxid och har dessutom fem gånger så lång livslängd i atmosfären, drygt 700 år. Elektronikindustrins utsläpp av NF3 motsvarar hittills 67 miljoner ton koldioxid – ungefär lika mycket som länderna Finland, Sverige eller Danmark släpper ut totalt per år.
Erland Källén, professor i dynamisk meteorologi och medlem i FN:s klimatpanel, påpekar dock att det kan bli missvisande att jämföra enskilda länders utsläpp med en hel industrigren:
– Per partikel har den här gasen mycket riktigt en kraftig effekt. Men utsläppen är än så länge så små att den sammantagna effekten blir försvinnande liten globalt sett.
